手套箱系统&高真空电阻热蒸发镀膜机

手套箱系统

描述

材料：不锈钢 type 304 厚度 3 mm
尺寸: 1800mm(L) x 750mm(W) x 900mm(H)+1200mm(L) x 750mm(W) x 900mm(H)

体积

1.2m³+0.8m³

前窗

面板：8 mm厚安全钢化玻璃  或 10 mm厚度聚碳酸酯 (可供选择)

手套口

硬铝合金材质或聚甲醛材料 (可供选择)
口径 220 mm, O型圈密封

手套

材料：丁基橡胶
厚度： 0.4 mm

过滤器

出口和入口过滤器，过滤<0.3μm

照明

LED照明位于前窗顶上部

泄漏率

≤ 0.05 vol%/h

单柱气体净化系统（两套）

描述

自动去除 H2O 和 O2
单净化柱系统，自动再生（可选购GP200双净化柱）
密闭的气体循环管路

使用电压

AC 230 V / 50-60 Hz, 10 A

工作气体

工作气：N2、Ar 、He（纯度≥99.999%）
再生气：H2占5%—10%，其余的为工作气（纯度≥99.999%）

真空泵

规格：旋片真空泵,  配带油雾过滤器, 带气镇控制
流量：12 m³/h (7 cfm), 双基片,真空度< 2 x 10-3 mbar 或干泵(可供选择)

循环单元

无油高速风机
风量：0-100 m³/h

阀门

国宝德电磁阀，模块化设计，优良的密封性能

泄漏率

≤ 0.05 vol%/h

控制柜尺寸

600mm（L） x 800mm（D） x 870mm（H）

过渡舱

T型大过渡舱

材料

不锈钢 type 304, 厚度 3 mm

尺寸

φ360mmx700mm(L)

真空度

< 1 x 10-2 mbar

T型小过渡舱

材料

不锈钢 type 304, 厚度 2 mm

尺寸

φ150mm x 700mm(L)

真空度

< 1 x 10-2 mbar

大过渡舱

材料

不锈钢 type 304, 厚度 3 mm

尺寸

φ360mmx600mm(L) 或φ390mmx600mm(L)(可供选择)

真空度

< 1 x 10-2 mbar

小过渡舱

材料

不锈钢 type 304, 厚度 2 mm

尺寸

φ150mm x 330mm(L)

真空度

< 1 x 10-2 mbar

清洗系统

描述

设置好相应时间和压力，系统可以对箱体自动进行气体置换。

分析仪

氧气分析仪

尺寸

205 mm（L） x 80 mm（W） x 60 mm（H）

测量范围

0-1000 ppm

其他氧分析仪

GE oxy.IQ™ Oxygen Transmitter

水分分析仪

尺寸

205 mm（L） x 80 mm（W） x 60 mm（H）

测量范围

0-500 ppm

其他水分析仪

GE VeriDri™ Dew-Point Transmitter

溶剂净化系统

描述

外壳材料

不锈钢1.4301 (SUS type 304), 厚度 3 mm

内部尺寸

220mm(Φ) x 450mm(H)

填充材料

优质活性炭

选购设备

低温冰箱

温度

室温 ~ -35℃

容积

18L和32L两种可选

结构

5层可调隔层

材质

304不锈钢

制冷剂

R404

加热舱

大过渡舱配置加热系统，温度为200℃，控温±1℃

真空镀膜室

尺寸

400mm（W）×400mm(H)×450mm(D)

材料

不锈钢1.4301 (SUS type 304), 厚度 5mm，所有焊缝连接均采用氩弧自动焊接技术；内表面镜面抛光，外表面三项处理。

体积

0.072m³

观察窗

门上配备玻璃观察窗（含防污染挡板），方便观察工作时的工作情况。
符合X射线防护国家标准

极限真空

≤6. 67x10-5pa （2×10-7Torr） (经烘烤除气后）

恢复真空时间

≤6.67X10-4 pa(经烘烤除气后）

接口

标准接口三个(φ200)，拓展安装分子泵和插板阀用；

照明

LED照明位于真空室侧部

泄漏率

检漏依据GB T 32218-2015对箱体进行检测，≤1x10-10PaL/s的标准进行最终验收测试。

真空系统

描述

采用 “分子泵+机械泵”高真空系统:

分子泵

抽速

1200L/S

真空泵

规格

旋片真空泵,  配带油雾过滤器, 带气镇控制

流量

36 m³/h (21 cfm)

真空度

< 2 x 10-3 mbar

工作电压

AC 230 V / 50-60 Hz, 10 A 或AC 115 V / 50-60 Hz, 20 A （可供选择）

抽速

从大气抽至9×10-4Pa≤30min（短时间暴露大气，冲入干燥氮气后开始抽气）

阀门

主阀

CC-200,高真空电气联动插板阀

前级阀/旁路阀

GDQ-40高真空气动挡板阀

真空测量

“两低一高”（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空） 数显复合真空计，测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；由PC显示和控制，可实现操作互锁联动。
* 可选配进口宽量程真空变送器

密封

部分采用金属密封，部分采用氟橡胶圈密封；

基片台

描述

放置样品的载物台采用304不锈钢制造，基片置于蒸发源正上方(全自动升降功能)，根据基片尺寸设计工装，方便用户固定样品。可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；

旋转

采用步进电机控制驱动旋转，磁流体密封，电机和磁流体同轴，不会产生丢转、爬行等情况，步进电机控制精确，转速范围0-30rpm连续可调；

升降

采用步进电机控制驱动旋转，磁流体密封，控制精确，高度范围0-100mm连续可调；

掩膜

抽屉式结构，承载最大小于120×120mm 样品，配日本SMC气动基片挡板，电气联动全自动控制。

镀膜源

金属蒸发源

结构

采用水冷铜电极+蒸发舟结构， 蒸发源间均设有防污染隔板且每个源均配有定位挡板，智能PC控制；

蒸发温度

室温0~1300℃

金属蒸发电源

输出功率

0~3000W ，电流通过逆变式调控，稳定可靠。电源功率在0~最大功率之间连续可调。

控制

RS-485接口，电源功率在0-最大功率之间连续可调。

数量

2台，自动切换控制

控制系统

描述

采用windows操作平台和cotrl2000控制系统，采用IPC+network技术，实现整机主要部件的参数化设置、实施实时监控及故障智能诊断以及膜厚全自动监控，有自动和手动控制两种模式。除取放样品外，其它操作过程全部在PC上使用软件控制；提供真空系统、工艺设置、充放气系统等友好人机操作界面；在工控机上可通过配方设置参数，实现对程序工艺过程和设备参数的设置、储存和打印。

特点

能够有效解决镀膜的准确、稳定和可靠性。
完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护；系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。
采用丰富I/O接口设计，充分满足扩展与外连设备的功能需求。
显示控制镀膜机的舱门开启/关闭。
镀膜工艺、工序、膜厚，方便并且保存打印。

膜厚监测、控制系统

描述

采用石英晶振膜厚控制仪，水冷膜厚探头安装在基片台附近，工控机连接。膜厚仪用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±1A（0.1nm）,实时信息反馈给工控机 ,若镀膜达到设置厚度,可自动控制电源,停止镀膜,实现自控膜厚之目的。

范围

监测厚度范围：1Å～99µ9999Å，分辨率1Å；监测速率范围：0.1Å～9999.9Å.S/s，分辨率0.1Å

特点

镀膜工艺、工序、膜厚设置均在PC上，可实现全过程自动化控制，可在PC上设定镀膜工艺，记录数据。

水冷系统

描述

冷却水路8进8出，总进水采用水压继电器控制。
总进水与出水接1P制冷循环水机，控温范围10–25 ℃。给靶、金属源、分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。

选配设备

基片台

加热

采用真空专用铠装加热丝，避免了传统加热元件污染真空室、污染基片、寿命短、需经常维护等问题。加热温度为：室温~300℃，温度控制采用进口日本岛电PID智能温控仪，控温精度±1℃。

水冷

采用步进电机控制驱动旋转，动密封，一进一出水流。

液氮冷却

专利产品：采用步进电机控制驱动旋转，磁流体密封，电机和磁流体同轴，实测温度-160 ℃

选片镀膜

专利产品：任意选片镀膜，归位自动转移对齐, 可调沉积高度。

自动配位镀膜

专利产品：选片无级配选镀膜功能，回零归位自动转移对齐, 可调沉积高度

无级翻转和旋转

专利产品：实现基片的横向和竖向旋转，无级旋转和加热，可实现高均匀度的镀膜。

真空烘烤/除气

双加热器设计；
功率：1200 W；
安装法兰：CF35；
给真空腔体快速除气，提高真空度；
烘烤时间比烘烤炉和加热带短；

进样舱

开门结构，尺寸约为ø200 X 300mm
真空系统：机械泵、分子泵、阀门
极限真空：≤6.67X10-4 pa(经烘烤除气后）。
恢复真空时间：30分钟可达到6. 6x10-3 Pa (系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始）

腔室加热

真空腔室配置加热系统，温度为200℃，控温±1℃

水冷系统

冷却水路8进8出，总进水采用水压继电器控制。
总进水与出水接1P制冷循环水机，控温范围10–25 ℃。给金属源、分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备 稳定运行。

其他说明

产品认证

ISO9001认证、CE认证、UL认证

质保期

一年质保期，终身维修

应用注意事项

详情参阅说明书危险、警告、注意等条款

包装尺寸(W×D×H)

重量